一、干涉儀是一種對(duì)光在兩個(gè)不同表面反射后形成的干涉條紋進(jìn)行分析的儀器。其基本原理就是通過不同光學(xué)元件形成參考光路和檢測(cè)光路。
 

　　二、工作原理：
 

　　(1)干涉儀是利用干涉原理測(cè)量光程之差從而測(cè)定有關(guān)物理量的光學(xué)儀器。兩束相干光間光程差的任何變化會(huì)非常靈敏地導(dǎo)致干涉條紋的移動(dòng)，而某一束相干光的光程變化是由它所通過的幾何路程或介質(zhì)折射率的變化引起，所以通過干涉條紋的移動(dòng)變化可測(cè)量幾何長(zhǎng)度或折射率的微小改變量，從而測(cè)得與此有關(guān)的其他物理量。
 

　　(2)測(cè)量精度決定于測(cè)量光程差的精度，干涉條紋每移動(dòng)一個(gè)條紋間距，光程差就改變一個(gè)波長(zhǎng)(～10-7米)，所以干涉儀是以光波波長(zhǎng)為單位測(cè)量光程差的，其測(cè)量精度之高是任何其他測(cè)量方法所無(wú)法比的。
 

　　三、應(yīng)用領(lǐng)域：半導(dǎo)體晶片、液晶產(chǎn)品(CS,LGP,BIU)、微機(jī)電系統(tǒng)、光纖產(chǎn)品、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)盤(HDD,DVD,CD)、材料研究、精密加工表面、生物醫(yī)學(xué)工程。
 

　　四、技術(shù)規(guī)格：
 

　　1.非接觸式測(cè)量：避免物件受損。
 

　　2.三維表面測(cè)量：表面高度測(cè)量范圍為1nm---200μm。
 

　　3.多重視野鏡片：方便物鏡的快速切換。