簡要描述:中圖儀器NS系列探針式臺階儀/輪廓/形貌/粗糙度/表面2D測試是一種接觸式表面形貌測量儀器,可以對微米和納米結構進行膜厚和薄膜高度、表面形貌、表面波紋和表面粗糙度等的測量。對測量工件的表面反光特性、材料種類、材料硬度都沒有特別要求,樣品適應面廣,數(shù)據(jù)復現(xiàn)性高、測量穩(wěn)定、便捷、高效,是微觀表面測量中使用非常廣泛的微納樣品測量手段。
詳細介紹
品牌 | CHOTEST/中圖儀器 | 價格區(qū)間 | 面議 |
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產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應用領域 | 能源,電子,汽車,電氣,綜合 |
中圖儀器NS系列探針式臺階儀/輪廓/形貌/粗糙度/表面2D測試是一種接觸式表面形貌測量儀器,可以對微米和納米結構進行膜厚和薄膜高度、表面形貌、表面波紋和表面粗糙度等的測量。廣泛應用于:大學、研究實驗室和研究所、半導體和化合物半導體、高亮度LED、太陽能、MEMS微機電、觸摸屏、汽車、醫(yī)療設備等行業(yè)領域。
NS系列探針式臺階儀/輪廓/形貌/粗糙度/表面2D測試對測量工件的表面反光特性、材料種類、材料硬度都沒有特別要求,樣品適應面廣,數(shù)據(jù)復現(xiàn)性高、測量穩(wěn)定、便捷、高效,是微觀表面測量中使用非常廣泛的微納樣品測量手段。
1.參數(shù)測量功能
1)臺階高度:能夠測量納米到330μm甚至1000μm的臺階高度,可以準確測量蝕刻、濺射、SIMS、沉積、旋涂、CMP等工藝期間沉積或去除的材料;
2)粗糙度與波紋度:能夠測量樣品的粗糙度和波紋度,分析軟件通過計算掃描出的微觀輪廓曲線,可獲取粗糙度與波紋度相關的Ra、RMS、Rv、Rp、Rz等20余項參數(shù);
3)翹曲與形狀:能夠測量樣品表面的2D形狀或翹曲,如在半導體晶圓制造過程中,因多層沉積層結構中層間不匹配所產(chǎn)生的翹曲或形狀變化,或者類似透鏡在內(nèi)的結構高度和曲率半徑。
2.數(shù)采與分析系統(tǒng)
1)自定義測量模式:支持用戶以自定義輸入坐標位置或相對位移量的方式來設定掃描路徑的測量模式;
2)導航圖智能測量模式:支持用戶結合導航圖、標定數(shù)據(jù)、即時圖像以智能化生成移動命令方式來實現(xiàn)掃描的測量模式。
3)SPC統(tǒng)計分析:支持對不同種類被測件進行多種指標參數(shù)的分析,針對批量樣品的測量數(shù)據(jù)提供SPC圖表以統(tǒng)計數(shù)據(jù)的變化趨勢。
3.光學導航功能
配備了500W像素的彩色相機,可實時將探針掃描軌跡的形貌圖像傳輸?shù)杰浖酗@示,進行即時的高精度定位測量。
4.樣品空間姿態(tài)調(diào)節(jié)功能
配備了精密XY位移臺、360°電動旋轉平臺和電動升降Z軸,可對樣品的XYZ、角度等空間姿態(tài)進行調(diào)節(jié),提高測量精度及效率。
1.亞埃級位移傳感器
具有亞埃級分辨率,結合單拱龍門式設計降低環(huán)境噪聲干擾,確保儀器具有良好的測量精度及重復性;
2.超微力恒力傳感器
1-50mg可調(diào),以適應硬質或軟質樣品表面,采用超低慣量設計和微小電磁力控制,實現(xiàn)無接觸損傷的接觸式測量;
3.超平掃描平臺
系統(tǒng)配有超高直線度導軌,杜絕運動中的細微抖動,真實地還原掃描軌跡的輪廓起伏和樣件微觀形貌。
1、半導體應用
(1)沉積薄膜的臺階高度
(2)抗蝕劑(軟膜材料)的臺階高度
(3)蝕刻速率測定
(4)化學機械拋光(腐蝕、凹陷、彎曲)
2、大型基板應用
(1)印刷電路板(突起、臺階高度)
(2)窗口涂層
(3)晶片掩模
(4)晶片卡盤涂料
(5)拋光板
3、玻璃基板及顯示器應用
(1)AMOLED
(2)液晶屏研發(fā)的臺階步級高度測量
(3)觸控面板薄膜厚度測量
(4)太陽能涂層薄膜測量
4、柔性電子器件薄膜應用
(1)有機光電探測器
(2)印于薄膜和玻璃上的有機薄膜
(3)觸摸屏銅跡線
型號 | NS200 |
測量技術 | 探針式表面輪廓測量技術 |
探針傳感器 | 超低慣量,LVDC傳感器 |
平臺移動范圍X/Y | 電動X/Y(150mm*150mm)(可手動校平) |
樣品R-θ載物臺 | 電動,360°連續(xù)旋轉 |
單次掃描長度 | 55mm |
樣品厚度 | 50mm |
載物臺晶圓尺寸 | 150mm(6吋),200mm(8吋) |
尺寸(L×W×H)mm | 640*626*534 |
重量 | 40kg |
儀器電源 | 100-240 VAC,50/60 Hz,200W |
相對濕度:濕度 (無凝結)30-40% RH
溫度:16-25℃ (每小時溫度變化小于2℃)
地面振動:6.35μm/s(1-100Hz)
音頻噪音:≤80dB
空氣層流:≤0.508 m/s(向下流動)
懇請注意:因市場發(fā)展和產(chǎn)品開發(fā)的需要,本產(chǎn)品資料中有關內(nèi)容可能會根據(jù)實際情況隨時更新或修改,恕不另行通知,不便之處敬請諒解。
如有疑問或需要更多詳細信息,請隨時聯(lián)系中圖儀器咨詢。
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